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  • 2008-10-10  封装与材料技术研讨会
  • 2008-10-30  深亚微米时代清洗技术之应用和挑战
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  • 深亚微米时代清洗技术之应用和挑战
    时间:2008-10-30  14:00-16:00
    地点:webcast.sichinamag.com

    在标准的IC制造工艺中,涉及晶圆清洗和表面预处理的工艺步骤就有100多步,在整个IC 制造的发展过程中,湿法清洗一直以来在晶圆清洗中占着主导地位,其中浸泡式(批处理)和喷雾式(单晶圆)目前被广泛应用于半导体制造。近年来,人们对一些新型…

  • 封装与材料技术研讨会
    时间:2008-10-10  14:00-16:00
    地点:webcast.sichinamag.com

    封装在半导体制造链中的比重越来越大,从传统的引脚封装、焊线工艺至晶圆制造后段的TSV、WLP,以及MEMS工艺,封装延伸其工艺范围的同时,正沿着高密度、细微化和高性能方向前进,封装尺寸愈来愈小,而封装工艺的可制造性、成品率、产品的可…

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