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  • 后道互连工艺技术与可靠性
    时间:2008-08-28  20:00-21:05
    地点:webcast.sichinamag.com

    半导体产业发展至今,大部分时间内Al 互连技术都扮演了极为重要的角色,铝材料和SiO2一直作为制造集成电路中的微连线或配线;0.13微米以下的设计标准中,采用铝微连线制造的器件开始在可靠性方面出现问题,基于双大马士革的铜互连工艺应运而生,…

     

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